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| 单分散二氧化硅超细颗粒的制备 | |
| 王玲玲; 方小龙; 唐芳琼; 杨传芳; 刘会洲 | |
| 2001 | |
| Source Publication | 过程工程学报
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| Issue | 02Pages:167-172 |
| Abstract | 利用3种不同类型的表面活性剂反胶团体系制备SiO2超细颗粒，并与传统的Stober制备方法进行了对比. 在阴离子表面活性剂AOT和非离子表面活性剂TritonX-100两类体系中，得到了单分散的SiO2超细颗粒．在AOT体系中颗粒粒径随体系水含量w。的增大而增大；而TritonX-100体系中，颗粒粒径随w。的增大而减小；在阳离子表面活性剂(如CTAB，TOMAC)体系中无法得到SiO2超细颗粒．对不同体系所得颗粒的粒径标准偏差及粒度分布进行了对比，结果表明制备粒径小于100 nm的SiO2颗粒，反胶团法明显优于Stober方法，粒径相对标准偏差较低, 而对粒径大于100 nm的颗粒，Stober方法仍不失为一种很好的制备途径． |
| Keyword | 二氧化硅 反胶团 超细颗粒 正硅酸乙酯 Stober方法 单分散 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Version | 出版稿 |
| Identifier | http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7091 |
| Collection | 研究所（批量导入） |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 王玲玲,方小龙,唐芳琼,等. 单分散二氧化硅超细颗粒的制备[J]. 过程工程学报,2001(02):167-172. |
| APA | 王玲玲,方小龙,唐芳琼,杨传芳,&刘会洲.(2001).单分散二氧化硅超细颗粒的制备.过程工程学报(02),167-172. |
| MLA | 王玲玲,et al."单分散二氧化硅超细颗粒的制备".过程工程学报 .02(2001):167-172. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 单分散二氧化硅超细颗粒的制备_王玲玲.p（288KB） | 限制开放 | CC BY-NC-SA | Application Full Text | |||
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