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单分散二氧化硅超细颗粒的制备
王玲玲; 方小龙; 唐芳琼; 杨传芳; 刘会洲
2001
Source Publication过程工程学报
Issue02Pages:167-172
Abstract利用3种不同类型的表面活性剂反胶团体系制备SiO2超细颗粒,并与传统的Stober制备方法进行了对比. 在阴离子表面活性剂AOT和非离子表面活性剂TritonX-100两类体系中,得到了单分散的SiO2超细颗粒.在AOT体系中颗粒粒径随体系水含量w。的增大而增大;而TritonX-100体系中,颗粒粒径随w。的增大而减小;在阳离子表面活性剂(如CTAB,TOMAC)体系中无法得到SiO2超细颗粒.对不同体系所得颗粒的粒径标准偏差及粒度分布进行了对比,结果表明制备粒径小于100 nm的SiO2颗粒,反胶团法明显优于Stober方法,粒径相对标准偏差较低, 而对粒径大于100 nm的颗粒,Stober方法仍不失为一种很好的制备途径.
Keyword二氧化硅 反胶团 超细颗粒 正硅酸乙酯 Stober方法 单分散
Document Type期刊论文
Version出版稿
Identifierhttp://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7091
Collection研究所(批量导入)
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GB/T 7714
王玲玲,方小龙,唐芳琼,等. 单分散二氧化硅超细颗粒的制备[J]. 过程工程学报,2001(02):167-172.
APA 王玲玲,方小龙,唐芳琼,杨传芳,&刘会洲.(2001).单分散二氧化硅超细颗粒的制备.过程工程学报(02),167-172.
MLA 王玲玲,et al."单分散二氧化硅超细颗粒的制备".过程工程学报 .02(2001):167-172.
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