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分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用
李钒; 方克明; 丁保华
1998
Source Publication化工冶金
Issue02Pages:62-65
Abstract利用无规分形对钽电容中MnO2/Ta2O5和Ta/Ta2O5界面的SEM形貌进行了图像处理.根据得出的分形维数值,验证了被膜过程为化学反应控速,阳极氧化击穿过程为扩散控速.
Keyword分形维数 钽电容 图像处理 线性回归
Document Type期刊论文
Version出版稿
Identifierhttp://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7596
Collection研究所(批量导入)
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GB/T 7714
李钒,方克明,丁保华. 分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用[J]. 化工冶金,1998(02):62-65.
APA 李钒,方克明,&丁保华.(1998).分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用.化工冶金(02),62-65.
MLA 李钒,et al."分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用".化工冶金 .02(1998):62-65.
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