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| 分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用 | |
| 李钒; 方克明; 丁保华 | |
| 1998 | |
| Source Publication | 化工冶金
 |
| Issue | 02Pages:62-65 |
| Abstract | 利用无规分形对钽电容中ＭｎＯ２／Ｔａ２Ｏ５和Ｔａ／Ｔａ２Ｏ５界面的ＳＥＭ形貌进行了图像处理．根据得出的分形维数值，验证了被膜过程为化学反应控速，阳极氧化击穿过程为扩散控速． |
| Keyword | 分形维数 钽电容 图像处理 线性回归 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Version | 出版稿 |
| Identifier | http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7596 |
| Collection | 研究所（批量导入） |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 李钒,方克明,丁保华. 分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用[J]. 化工冶金,1998(02):62-65. |
| APA | 李钒,方克明,&丁保华.(1998).分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用.化工冶金(02),62-65. |
| MLA | 李钒,et al."分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用".化工冶金 .02(1998):62-65. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应（183KB） | 限制开放 | CC BY-NC-SA | Application Full Text | |||
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