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Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究
吴铧; 沈电洪
1995
Source Publication真空科学与技术
Issue03Pages:172-175
Abstract对AlN陶瓷在室温和超高真空条件下蒸镀金属钛过程的界面反应进行了热力学研究,并用X光电子能谱(XPS)进行了验证,表明在金属钛沉积以前AlN陶瓷在空气中表面部分被氧化,当样品沉积了金属钛后,刚沉积上的钛是氧化状态,随着钛沉积厚度的增加,表面TiN和Al2O3的成分都增加。
KeywordAln陶瓷 镀钛 热力学 X射线光电子能谱
Document Type期刊论文
Version出版稿
Identifierhttp://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7861
Collection研究所(批量导入)
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GB/T 7714
吴铧,沈电洪. Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究[J]. 真空科学与技术,1995(03):172-175.
APA 吴铧,&沈电洪.(1995).Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究.真空科学与技术(03),172-175.
MLA 吴铧,et al."Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究".真空科学与技术 .03(1995):172-175.
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