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表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学
N.H.特纳; 季明荣; 温庆生; 周开亿
1989
Source Publication光谱实验室
Issue04Pages:147-167+146
Abstract美国《分析化学》(Anal .Chem)杂志每两年分专题发表一次基础述评(Fund.Rev.)比较全面地总结了两年来在本专题范围内所获得的最新成就,信息量极为丰富,这对分析测试工作者了解世界发展动态很有参考价值——可以说,读了它基本上可起到"秀才不出门,全知天下事"的作用。为此,我们从第5卷第2辑起选登有关光谱(能谱)分析几个专题的译文(取名为"动态述评"),同时附上参考文献,以便对某些问题想作详细了解的读者查找。所选专题是:拉曼光谱学,分子荧光、磷光和化学发光光谱法,X射线光谱法,表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学,紫外光及可见光吸收光谱法,发射光谱法,原子吸收、原子荧光和火焰发射光谱法,穆斯堡尔能谱学,核磁共振波谱学等。
Keyword谱学 俄歇电子 光谱法 溅射法 分析测试工作 荷电效应 表面分析 俄歇跃迁 穆斯堡尔 薄膜研究
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/8578
Collection研究所(批量导入)
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GB/T 7714
N.H.特纳,季明荣,温庆生,等. 表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学[J]. 光谱实验室,1989(04):147-167+146.
APA N.H.特纳,季明荣,温庆生,&周开亿.(1989).表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学.光谱实验室(04),147-167+146.
MLA N.H.特纳,et al."表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学".光谱实验室 .04(1989):147-167+146.
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