选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液

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	选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液
	丁锐; 高飞; 苏志国; 王平; 马光辉; 张松平
	2011
Source Publication	过程工程学报
Issue	03 Pages:461-467
Abstract	利用选择性紫外曝光法对聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片通道内壁进行了部分亲/疏水改性,通过接触角和原子力显微镜对改性表面进行表征,并利用改性后的芯片制备出了高度均一的单乳液和复乳液.结果表明,在芯片的非曝光区域,光引发剂二苯甲酮使PDMS表面粗糙且保持疏水性,接触角为101o;而在曝光区域,由于聚合形成的聚丙烯酸交联到PDMS上使其表面光滑且具有亲水性,接触角为62o,形成的亲/疏水特性可维持30d以上.利用改性后芯片制备的大豆油、三羟甲基丙烷丙烯酸酯和氟碳油3种单乳液的粒径变异系数均低于3%,而复乳液外径和内径的变异系数分别为3.5%和2.9%.
Keyword	表面改性微流控芯片聚二甲基硅氧烷尺寸均一乳液
Document Type	期刊论文
Version	出版稿
Identifier	http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/9801
Collection	研究所（批量导入）
Recommended Citation GB/T 7714	丁锐,高飞,苏志国,等. 选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液[J]. 过程工程学报,2011(03):461-467.
APA	丁锐,高飞,苏志国,王平,马光辉,&张松平.(2011).选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液.过程工程学报(03),461-467.
MLA	丁锐,et al."选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液".过程工程学报 .03(2011):461-467.

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