Knowledge Management System Of Institute of process engineering,CAS
| MDI清洁合成工艺研究进展 | |
| 高俊杰; 李会泉; 张懿; 费维扬 | |
| 2009 | |
| Source Publication | 化工进展
 |
| Issue | 02Pages:309-315 |
| Abstract | 回顾了清洁合成二苯甲烷二异氰酸酯(MDI)的几种主要方法,如BTC法、苯胺缩和法、硝基苯还原羰基化法、苯胺氧化羰基化法、碳酸酯法、二苯基脲法和反应耦合法等合成路线。其中反应耦合法不仅反应简单、条件温和、反应的原子经济性高、成本低,而且还可以推动温室气体CO2的减排和资源化利用,是一条比较有发展前景的非光气合成路线。 |
| Keyword | 二苯甲烷二异氰酸酯 清洁合成工艺 反应耦合法 |
| Indexed By | CSCD |
| CSCD ID | CSCD:3491712 |
| Citation statistics | |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/9874 |
| Collection | 研究所（批量导入） |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 高俊杰,李会泉,张懿,等. MDI清洁合成工艺研究进展[J]. 化工进展,2009(02):309-315. |
| APA | 高俊杰,李会泉,张懿,&费维扬.(2009).MDI清洁合成工艺研究进展.化工进展(02),309-315. |
| MLA | 高俊杰,et al."MDI清洁合成工艺研究进展".化工进展 .02(2009):309-315. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| MDI清洁合成工艺研究进展_高俊杰.pd（1090KB） | 期刊论文 | 出版稿 | 限制开放 | CC BY-NC-SA | Application Full Text | |
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