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选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液 期刊论文
过程工程学报, 2011, 期号: 03, 页码: 461-467
Authors:  丁锐;  高飞;  苏志国;  王平;  马光辉;  张松平
Adobe PDF(1661Kb)  |  Favorite  |  View/Download:23/0  |  Submit date:2014/08/27
表面改性  微流控芯片  聚二甲基硅氧烷  尺寸均一  乳液